3d x-dram 文章 進入3d x-dram技術社區(qū)
3D打印高性能射頻傳感器
- 中國的研究人員開發(fā)了一種開創(chuàng)性的方法,可以為射頻傳感器構建分辨率低于 10 微米的高縱橫比 3D 微結構。該技術以 1:4 的寬高比實現(xiàn)了深溝槽,同時還實現(xiàn)了對共振特性的精確控制并顯著提高了性能。這種混合技術不僅提高了 RF 超結構的品質因數(shù) (Q 因子) 和頻率可調性,而且還將器件占用空間減少了多達 45%。這為傳感、MEMS 和 RF 超材料領域的下一代應用鋪平了道路。電子束光刻和納米壓印等傳統(tǒng)光刻技術難以滿足對超精細、高縱橫比結構的需求。厚度控制不佳、側壁不均勻和材料限制限制了性能和可擴展性。該技術
- 關鍵字: 3D 射頻傳感器
撐不住, SK海力士DRAM漲12%
- 全球存儲器市場近期出現(xiàn)顯著價格上漲,消費級存儲器產品價格持續(xù)攀升。 根據(jù)最新市場動態(tài),SK海力士消費級DRAM顆粒價格已上漲約12%,落實先前市場的漲價傳言。美商威騰旗下品牌SanDisk則于先前發(fā)布NAND Flash價格上調通知,自4月1日起,對所有通路商及零售客戶的產品實施價格調整,漲幅將超過10%。市場分析人士指出,存儲器價格近期上漲主要受到全球供應鏈瓶頸、晶圓產能限制及美系客戶急拉貨的影響。特別是人工智能、云端運算及5G技術的快速發(fā)展,持續(xù)推動了對高性能內存的強勁需求,存儲器國際大廠集中資源,生
- 關鍵字: SK海力士 DRAM
三星電子將引入VCT技術,未來2到3年推出新型DRAM產品
- 據(jù)最新消息,三星電子已制定明確的技術路線圖,計劃在第7代10nm級DRAM內存工藝(1d nm)后引入VCT垂直通道晶體管技術。相關產品預計將在未來2到3年內問世。在規(guī)劃下一代DRAM工藝時,三星電子曾面臨兩種選擇:1e nm工藝和VCT DRAM技術。經過深入研究和對比,三星最終選擇了VCT DRAM技術。相較于1e nm,VCT技術在性能和效率方面表現(xiàn)更優(yōu)。為加快研發(fā)進度,三星電子還將原1e nm的先行研究團隊并入1d nm研發(fā)團隊,集中力量推進1d nm工藝的開發(fā)。VCT DRAM技術是一種新型存儲
- 關鍵字: 三星電子 VCT DRAM
閃迪提議HBF取代HBM,在邊緣實現(xiàn) AI
- Sandisk Corp. 正在尋求 3D-NAND 閃存的創(chuàng)新,該公司聲稱該創(chuàng)新可以取代基于 DRAM 的 HBM(高帶寬內存)用于 AI 推理應用。當 Sandisk 于 2025 年 2 月從數(shù)據(jù)存儲公司 Western Digital 分拆出來時,該公司表示,它打算在提供閃存產品的同時追求新興顛覆性內存技術的開發(fā)。在 2 月 11 日舉行的 Sandisk 投資者日上,即分拆前不久,即將上任的內存技術高級副總裁 Alper Ilkbahar 介紹了高帶寬閃存以及他稱之為 3D 矩陣內存的東西。在同
- 關鍵字: Sandisk 3D-NAND
高速數(shù)據(jù)中心蓬勃發(fā)展,DRAM內存接口功不可沒
- 高性能人工智能(AI)數(shù)據(jù)中心正在以前所未有的方式重塑半導體設計版圖和投資方向。早在2022年,AI基礎設施方面的支出規(guī)模就已接近150億美元。而今年這一數(shù)字可能輕松突破600億美元大關。沒錯,“吸金”,各種資金正從各種投資計劃中向數(shù)據(jù)中心涌入。顯然,我們正處在一個人工智能資本支出空前高漲的時代——盡管DeepSeek等新入局者的潛在影響尚難以被準確估量。但不可否認的是,就在英偉達(Nvidia)、AMD等公司的高性能計算(HPC)處理器成為行業(yè)焦點的同時,用于存儲訓練和推理模型的高帶寬內存同樣迎來了屬于
- 關鍵字: 數(shù)據(jù)中心 DRAM
美光、SK海力士跟隨中!三星對內存、閃存產品提價3-5%:客戶已開始談判新合同
- 4月7日消息,據(jù)國外媒體報道稱,三星公司領導層將對主要全球客戶提高內存芯片價格——從當前水平提高3-5%。在三星看來,“需求大幅增長”導致DRAM、NAND閃存和HBM產品組合的價格上漲,預計2025年和2026年價格都會上漲。一位不愿透露姓名的半導體業(yè)內人士表示:去年全年供應過剩,但隨著主要公司開始減產,供應量最近有所下降,目前三星漲價后部分新合同的談判已然啟動。此外,人工智能 (AI) 設備在中國接連出現(xiàn),由于工業(yè)自動化,對半導體的需求正在逐漸增加。市場研究機構DRAMeXchange給出的統(tǒng)計顯示,
- 關鍵字: 內存 DRAM NAND HBM 三星 美光 SK海力士
下游客戶庫存去化順利,預計2Q25 DRAM價格跌幅將收斂
- 根據(jù)TrendForce集邦咨詢最新調查,2025年第一季下游品牌廠大都提前出貨因應國際形勢變化,此舉有助供應鏈中DRAM的庫存去化。展望第二季,預估Conventional DRAM(一般型DRAM)價格跌幅將收斂至季減0%至5%,若納入HBM計算,受惠于HBM3e 12hi逐漸放量,預計均價為季增3%至8%。PC DRAM、Server DRAM價格皆持平上季因應國際形勢變化,各主要PC OEM要求ODM提高整機組裝量,將加速去化OEM手中的DRAM庫存。為確保2025年下半年產線供料穩(wěn)定,庫存水
- 關鍵字: TrendForce 集邦咨詢 DRAM
美光1γ DRAM開始出貨,用上了EUV
- 美光經過多代驗證的 DRAM 技術和制造策略促成了這一優(yōu)化的 1γ節(jié)點的誕生。
- 關鍵字: 美光1γ DRAM
新型高密度、高帶寬3D DRAM問世
- 3D DRAM 將成為未來內存市場的重要競爭者。
- 關鍵字: 3D DRAM
國際最新研究將3D NAND深孔蝕刻速度提升一倍
- 據(jù)媒體報道,近日,研究人員發(fā)現(xiàn)了一種使用先進的等離子工藝在3D NAND閃存中蝕刻深孔的更快、更高效的方法。通過調整化學成分,將蝕刻速度提高了一倍,提高了精度,為更密集、更大容量的內存存儲奠定了基礎。這項研究是由來自Lam Research、科羅拉多大學博爾德分校和美國能源部普林斯頓等離子體物理實驗室(PPPL)的科學家通過模擬和實驗進行的。根據(jù)報道,前PPPL研究員、現(xiàn)就職于Lam Research的Yuri Barsukov表示,使用等離子體中發(fā)現(xiàn)的帶電粒子是創(chuàng)建微電子學所需的非常小但很深的圓孔的最簡
- 關鍵字: 3D NAND 深孔蝕刻
3d x-dram介紹
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